Huawei patenteou ferramentas litográficas EUV para fazer Chips abaixo dos 10nm

Está prontos para experimentar um salto quântico na tecnologia de fabrico de chips? A Huawei está a aproximar-nos mais do que nunca com as suas ferramentas litográficas patenteadas EUV para o fabrico de chips abaixo dos 10nm. Este processo utiliza luz ultravioleta extrema (EUV) para criar componentes semicondutores incrivelmente precisos que podem alimentar os computadores e smartphones mais avançados. Isto significa menos dependência do ocidente, para a Huawei e para todas as empresas chinesas.

A máquina litográfica EUV produz espelhos de micro dimensões que são depois combinados para produzir um feixe único e homogéneo – eliminando os padrões de interferência causados pela luz ultravioleta. Isto permite aos fabricantes obter muito melhor precisão e precisão na construção de chips em nós de sub-10nm. Com a tecnologia da Huawei, as possibilidades são infinitas – criando processadores mais pequenos e rápidos que podem alimentar aplicações de IA sofisticadas, redes 5G, veículos autónomos, dispositivos de realidade virtual, e muito mais

A máquina litográfica também permite aos fabricantes reduzir o seu consumo de energia, reduzindo a necessidade de processos de gravura. Ao tirar partido desta tecnologia, os fabricantes de chips podem poupar tempo e dinheiro enquanto produzem componentes de maior qualidade para dispositivos electrónicos modernos

Em suma, a patente inovadora da Huawei vai ajudar as empresas chinesas a entrar na sua nova era de desempenho e eficiência sem precisar dos EUA.

Uma máquina de litografia EUV ASML.

Um elemento utilizado nas técnicas litográficas EUV, que são necessárias para a produção de CPUs premium em nós sub-10 nm, foi patenteado pela HUAWEI. Elimina os padrões de interferência causados pela luz ultravioleta que de outra forma tornariam a bolacha irregular.

Na fase final de fabrico do chip, a Huawei encontrou uma solução para o problema colocado pelos comprimentos de onda minúsculos da luz EUV. Na sua patente, a empresa esboça um sistema de espelhos que divide um feixe de luz em múltiplos subfeixes que atingem espelhos individuais minúsculos.

Quando esses espelhos são combinados, os padrões de interferência anulam-se para produzir um único feixe homogéneo, uma vez que cada espelho gira de forma diferente, produzindo vários padrões de interferência na luz. A ASML, uma firma holandesa, é actualmente o único fabricante de sistemas litográficos EUV. A EUV litografia emprega luz com um comprimento de onda de cerca de 13,5 nm; trata-se praticamente de um raio X, mas ainda funciona com os mesmos princípios que os tipos anteriores de litografia. Gotas de estanho fundidas de 25 mícrons de diâmetro rápido são utilizadas pela ASML para produzir luz UV.

O primeiro conjunto de máquinas litográficas EUV comercialmente viáveis levou mais de 6 mil milhões de euros e 17 anos a ser criado pela ASML. O governo dos EUA exerceu pressão sobre o governo holandês para impor uma proibição às exportações para a China antes de estas estarem concluídas, forçando o país a permanecer com tecnologia ultravioleta profunda e desactualizada. Actualmente, apenas cinco empresas – nomeadamente a Intel e a Micron nos EUA, a Samsung e a SK Hynix na Coreia do Sul, e a TSMC em Taiwan – estão a empregar ou fizeram planos para utilizar os sistemas litográficos EUV da ASML.

Antes, empresas chinesas como a HUAWEI podiam enviar os seus desenhos para fábricas como a TSMC para a produção litográfica EUV; contudo, tornou-se menos provável desde que os EUA impuseram sanções à China.

Para os seus processadores proprietários, que são concebidos para tudo, desde smartphones a centros de dados, HUAWEI requer acesso a nós de ponta que utilizam a litografia EUV. Embora ainda tenha um caminho a percorrer antes de produzir os seus próprios sistemas EUV, o governo está a fornecer um amplo financiamento e apoio para os ajudar a chegar lá.

Em conclusão, a Huawei patenteou com sucesso uma tecnologia que permitirá a produção de chips inferiores a 10 nm. Este é um grande avanço no mundo da tecnologia e conduzirá sem dúvida a dispositivos mais avançados e poderosos num futuro próximo. Ao utilizar técnicas litográficas EUV, a Huawei resolveu um problema que anteriormente era causado pelos comprimentos de onda minúsculos da luz EUV. A sua solução envolve um sistema de espelhos que divide um feixe de luz em vários subfeixes que atingem espelhos individuais minúsculos que, quando combinados, anulam padrões de interferência para produzir um único feixe homogéneo.

É evidente que a Huawei continua a sua missão de trazer o avanço tecnológico para a linha da frente e tornar acessível a todos. Nós no AndroidGeek estamos dedicados a manter os nossos leitores a par de todas as notícias e fugas de informação sobre esta tecnologia revolucionária para que possam estar entre os primeiros a beneficiar dela. Por isso, se quiser manter-se à frente quando se trata das tendências tecnológicas actuais, então assegure-se de que nos visita para todas as suas necessidades tecnológicas e siga-nos nas redes sociais para ainda mais actualizações!

Fonte: Techspot